అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ టెక్నాలజీ, సులభం కాదు!

నేను చాలా కాలం క్రితం అలాంటి నివేదికను చూశాను: జర్మనీ, జపాన్ మరియు ఇతర దేశాల శాస్త్రవేత్తలు 5 సంవత్సరాలు గడిపారు మరియు అధిక స్వచ్ఛత సిలికాన్-28 పదార్థంతో తయారు చేసిన బంతిని రూపొందించడానికి దాదాపు 10 మిలియన్ యువాన్లను వెచ్చించారు.ఈ 1 కిలోల స్వచ్ఛమైన సిలికాన్ బాల్‌కు అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ మ్యాచింగ్, గ్రైండింగ్ మరియు పాలిషింగ్, ప్రెసిషన్ మెజర్‌మెంట్ (గోళాకారం, కరుకుదనం మరియు నాణ్యత) అవసరం, ఇది ప్రపంచంలోనే గుండ్రని బంతిగా చెప్పవచ్చు.

అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ ప్రక్రియను పరిచయం చేద్దాం.

01 గ్రౌండింగ్ మరియు పాలిషింగ్ మధ్య వ్యత్యాసం

గ్రౌండింగ్: గ్రౌండింగ్ సాధనంపై పూత పూసిన లేదా నొక్కిన రాపిడి కణాలను ఉపయోగించి, ఉపరితలం గ్రౌండింగ్ సాధనం మరియు వర్క్‌పీస్ యొక్క సాపేక్ష కదలిక ద్వారా నిర్దిష్ట ఒత్తిడిలో పూర్తి చేయబడుతుంది.వివిధ మెటల్ మరియు నాన్-మెటల్ పదార్థాలను ప్రాసెస్ చేయడానికి గ్రైండింగ్ ఉపయోగించవచ్చు.ప్రాసెస్ చేయబడిన ఉపరితల ఆకృతులలో విమానం, లోపలి మరియు బయటి స్థూపాకార మరియు శంఖాకార ఉపరితలాలు, కుంభాకార మరియు పుటాకార గోళాకార ఉపరితలాలు, దారాలు, దంతాల ఉపరితలాలు మరియు ఇతర ప్రొఫైల్‌లు ఉంటాయి.ప్రాసెసింగ్ ఖచ్చితత్వం IT5~IT1కి చేరుకుంటుంది మరియు ఉపరితల కరుకుదనం Ra0.63~0.01μmకి చేరుతుంది.

పాలిషింగ్: మెకానికల్, కెమికల్ లేదా ఎలెక్ట్రోకెమికల్ చర్య ద్వారా వర్క్‌పీస్ యొక్క ఉపరితల కరుకుదనాన్ని ఒక ప్రకాశవంతమైన మరియు మృదువైన ఉపరితలం పొందేందుకు తగ్గించే ప్రాసెసింగ్ పద్ధతి.

రెండింటి మధ్య ప్రధాన వ్యత్యాసం ఏమిటంటే, పాలిషింగ్ ద్వారా సాధించిన ఉపరితల ముగింపు గ్రౌండింగ్ కంటే ఎక్కువగా ఉంటుంది మరియు రసాయన లేదా ఎలక్ట్రోకెమికల్ పద్ధతులను ఉపయోగించవచ్చు, అయితే గ్రౌండింగ్ ప్రాథమికంగా యాంత్రిక పద్ధతులను మాత్రమే ఉపయోగిస్తుంది మరియు ఉపయోగించిన రాపిడి ధాన్యం పరిమాణం ఉపయోగించిన దానికంటే ముతకగా ఉంటుంది. పాలిషింగ్.అంటే, కణ పరిమాణం పెద్దది.

02 అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ టెక్నాలజీ

అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ అనేది ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమ యొక్క ఆత్మ

ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్స్ పరిశ్రమలో అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ టెక్నాలజీ యొక్క లక్ష్యం వివిధ పదార్థాలను చదును చేయడం మాత్రమే కాదు, బహుళ-పొర పదార్థాలను చదును చేయడం కూడా, తద్వారా కొన్ని మిల్లీమీటర్ల చదరపు సిలికాన్ పొరలు మిలియన్ల కొద్దీ VLSI వరకు పదివేల వరకు ఏర్పడతాయి. ట్రాన్సిస్టర్లు.ఉదాహరణకు, మానవులు కనిపెట్టిన కంప్యూటర్ నేడు పదుల టన్నుల నుండి వందల గ్రాములకు మారింది, ఇది అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ లేకుండా గ్రహించబడదు.

పొరల తయారీని ఉదాహరణగా తీసుకుంటే, పాలిషింగ్ అనేది మొత్తం ప్రక్రియ యొక్క చివరి దశ, ఉత్తమ సమాంతరతను పొందడానికి మునుపటి పొర ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియ ద్వారా మిగిలిపోయిన చిన్న లోపాలను మెరుగుపరచడం దీని ఉద్దేశ్యం.నేటి ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ సమాచార పరిశ్రమ స్థాయికి నానోమీటర్ స్థాయికి చేరుకున్న నీలమణి మరియు సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ వంటి ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ సబ్‌స్ట్రేట్ మెటీరియల్‌ల కోసం మరింత ఖచ్చితమైన సమాంతరత అవసరాలు అవసరం.దీనర్థం పాలిషింగ్ ప్రక్రియ నానోమీటర్ల అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ స్థాయికి కూడా ప్రవేశించింది.

ఆధునిక తయారీలో అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ ప్రక్రియ ఎంత ముఖ్యమైనది, దాని అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ తయారీ, వైద్య పరికరాలు, ఆటో విడిభాగాలు, డిజిటల్ ఉపకరణాలు, ఖచ్చితమైన అచ్చులు మరియు ఏరోస్పేస్‌తో సహా సమస్యను నేరుగా వివరించగలవు.

టాప్ పాలిషింగ్ టెక్నాలజీ యునైటెడ్ స్టేట్స్ మరియు జపాన్ వంటి కొన్ని దేశాలు మాత్రమే ప్రావీణ్యం పొందింది

పాలిషింగ్ మెషిన్ యొక్క ప్రధాన పరికరం "గ్రౌండింగ్ డిస్క్".అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ మెటీరియల్ కంపోజిషన్ మరియు పాలిషింగ్ మెషీన్‌లోని గ్రైండింగ్ డిస్క్ యొక్క సాంకేతిక అవసరాలపై దాదాపు కఠినమైన అవసరాలను కలిగి ఉంటుంది.ప్రత్యేక పదార్థాల నుండి సంశ్లేషణ చేయబడిన ఈ రకమైన ఉక్కు డిస్క్ ఆటోమేటిక్ ఆపరేషన్ యొక్క నానో-స్థాయి ఖచ్చితత్వాన్ని మాత్రమే కాకుండా, ఖచ్చితమైన ఉష్ణ విస్తరణ గుణకాన్ని కలిగి ఉండాలి.

పాలిషింగ్ మెషిన్ అధిక వేగంతో నడుస్తున్నప్పుడు, థర్మల్ విస్తరణ గ్రౌండింగ్ డిస్క్ యొక్క ఉష్ణ వైకల్యానికి కారణమైతే, ఉపరితలం యొక్క ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు సమాంతరత హామీ ఇవ్వబడదు.మరియు ఈ రకమైన థర్మల్ డిఫార్మేషన్ లోపం సంభవించడానికి అనుమతించబడదు, కొన్ని మిల్లీమీటర్లు లేదా కొన్ని మైక్రాన్లు కాదు, కానీ కొన్ని నానోమీటర్లు.

ప్రస్తుతం, యునైటెడ్ స్టేట్స్ మరియు జపాన్ వంటి అగ్ర అంతర్జాతీయ పాలిషింగ్ ప్రక్రియలు ఇప్పటికే 60-అంగుళాల సబ్‌స్ట్రేట్ ముడి పదార్థాల (అవి సూపర్-సైజ్) యొక్క ఖచ్చితమైన పాలిషింగ్ అవసరాలను తీర్చగలవు.దీని ఆధారంగా, వారు అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ ప్రక్రియల యొక్క ప్రధాన సాంకేతికతను స్వాధీనం చేసుకున్నారు మరియు ప్రపంచ మార్కెట్‌లో చొరవను గట్టిగా గ్రహించారు..వాస్తవానికి, ఈ సాంకేతికతను మాస్టరింగ్ చేయడం వల్ల ఎలక్ట్రానిక్స్ తయారీ పరిశ్రమ అభివృద్ధిని కూడా చాలా వరకు నియంత్రిస్తుంది.

అటువంటి కఠినమైన సాంకేతిక దిగ్బంధనాన్ని ఎదుర్కొన్న, అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ రంగంలో, నా దేశం ప్రస్తుతం స్వీయ పరిశోధన మాత్రమే చేయగలదు.

చైనా యొక్క అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ టెక్నాలజీ స్థాయి ఏమిటి?

వాస్తవానికి, అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ రంగంలో, చైనా విజయాలు లేకుండా లేదు.

2011లో, చైనీస్ అకాడమీ ఆఫ్ సైన్సెస్ యొక్క నేషనల్ సెంటర్ ఫర్ నానోస్కేల్ సైన్సెస్ నుండి డాక్టర్ వాంగ్ క్వి బృందం అభివృద్ధి చేసిన “సిరియం ఆక్సైడ్ మైక్రోస్పియర్ పార్టికల్ సైజ్ స్టాండర్డ్ మెటీరియల్ అండ్ ఇట్స్ ప్రిపరేషన్ టెక్నాలజీ” చైనా పెట్రోలియం మరియు కెమికల్ ఇండస్ట్రీ మొదటి బహుమతిని గెలుచుకుంది. ఫెడరేషన్ యొక్క టెక్నాలజీ ఇన్వెన్షన్ అవార్డు, మరియు సంబంధిత నానోస్కేల్ పార్టికల్ సైజ్ స్టాండర్డ్ మెటీరియల్స్ నేషనల్ మెజరింగ్ ఇన్‌స్ట్రుమెంట్ లైసెన్స్ మరియు నేషనల్ ఫస్ట్-క్లాస్ స్టాండర్డ్ మెటీరియల్ సర్టిఫికేట్‌ను పొందాయి.కొత్త సిరియం ఆక్సైడ్ మెటీరియల్ యొక్క అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ ప్రొడక్షన్ టెస్ట్ ఎఫెక్ట్ విదేశీ సాంప్రదాయ పదార్థాలను ఒక్కసారిగా అధిగమించి, ఈ రంగంలో అంతరాన్ని పూరించింది.

కానీ డాక్టర్ వాంగ్ క్వి ఇలా అన్నారు: “మేము ఈ రంగంలో అగ్రస్థానానికి చేరుకున్నామని దీని అర్థం కాదు.మొత్తం ప్రక్రియ కోసం, పాలిషింగ్ లిక్విడ్ మాత్రమే ఉంది కానీ అల్ట్రా-ప్రెసిషన్ పాలిషింగ్ మెషిన్ లేదు.గరిష్టంగా, మేము పదార్థాలను మాత్రమే విక్రయిస్తున్నాము.

2019లో, జెజియాంగ్ యూనివర్శిటీ ఆఫ్ టెక్నాలజీకి చెందిన ప్రొఫెసర్ యువాన్ జులాంగ్ పరిశోధనా బృందం సెమీ-ఫిక్స్‌డ్ అబ్రాసివ్ కెమికల్ మెకానికల్ ప్రాసెసింగ్ టెక్నాలజీని రూపొందించింది.యుహువాన్ CNC మెషిన్ టూల్ కో., లిమిటెడ్ ద్వారా అభివృద్ధి చేయబడిన పాలిషింగ్ మెషీన్‌ల శ్రేణిని భారీగా ఉత్పత్తి చేసారు మరియు Apple ద్వారా iPhone4 మరియు iPad3 గ్లాస్‌లుగా గుర్తించబడ్డాయి.ప్యానెల్ మరియు అల్యూమినియం అల్లాయ్ బ్యాక్‌ప్లేన్ పాలిషింగ్ కోసం ప్రపంచంలోని ఏకైక ఖచ్చితమైన పాలిషింగ్ పరికరాలు, ఆపిల్ యొక్క ఐఫోన్ మరియు ఐప్యాడ్ గ్లాస్ ప్లేట్ల భారీ ఉత్పత్తి కోసం 1,700 కంటే ఎక్కువ పాలిషింగ్ మెషీన్‌లు ఉపయోగించబడుతున్నాయి.

మెకానికల్ ప్రాసెసింగ్ యొక్క ఆకర్షణ ఇందులో ఉంది.మార్కెట్ వాటా మరియు లాభాన్ని కొనసాగించడానికి, మీరు ఇతరులతో కలుసుకోవడానికి మీ వంతు ప్రయత్నం చేయాలి మరియు సాంకేతిక నాయకుడు ఎల్లప్పుడూ మెరుగుపడతారు మరియు మెరుగుపడతారు, మరింత మెరుగుపడతారు, నిరంతరం పోటీ పడతారు మరియు పట్టుకోవడం మరియు గొప్ప అభివృద్ధిని ప్రోత్సహించడం. మానవ సాంకేతికత.